在Blender 4.2中，对EEVEE进行了重写。虽然大多数功能保持兼容，但有些功能被完全重写，兼容性被破坏。本页介绍移植过程以及如何在两个引擎版本之间复制类似的设置

世界

世界体积现在完全阻挡了远处的光（世界光和太阳光）。为了保持相同的效果，需要将体积转换为物理对象。顶部栏帮助菜单或面板中提供了转换操作。只有在有要转换的内容时操作才会出现。世界 > 体积

世界照明现在可以从提取的灯光位置投射阴影。加载旧文件时，禁用以保留其效果。世界> 设置> 日光> 阴影

阴影

以前的日光阴影精度设置无法自动转换，它们将被新设置替换。如果以前的精度远低于新的默认值，则可能会导致巨大的性能损失或引发错误。增加将降低分辨率并解决问题。数据> 灯光> 阴影> 精度限制 阴影缓冲 绝对精度限制

渲染设置 > 阴影> 软阴影 现在是每个灯光的选项了，默认情况下禁用此选项，因为阴影贴图光线跟踪可以以低得多的成本输出看似合理的软阴影。如果阴影贴图光线跟踪不能提供令人满意的结果，则可以按灯光重新启用抖动的阴影。数据 > 灯光> 阴影> 抖动

抖动阴影默认情况下在视口中不可见，因为它们的成本较高。打开以使其回归。渲染设置 > 采样> 视图>抖动阴影

接触阴影不再可用，因为在大多数情况下新阴影贴图的精度是足够的。对于设置为高度依赖的灯，可能需要降低以避免漏光。

材质

材质已被替换，若要复制与前者或相同的行为，需要通过添加数学模式来修改材质。对于简单的材质是自动处理的，但更复杂的设置需要手动转换。请参阅下面的示例，了解如何导入更复杂的混合。混合模式·渲染方式·Alpha 钳制·不透明·大于

• 材质已被替换 . 如果指定给对象的所有材质都使用选项，则此新设置将被禁用.阴影模式·物体> 可见性> 光程阴影可见性·阴影模式> 无
  • 如果是的话，它可能会在兼容的同时自动处理。否则，材质节点树可能需要类似的调整.阴影模式·Alpha钳制·混合模式
  • 原来的材质内阴影模式>设置>透明阴影，已删除。
  • 材质节点树已经被自动修改为禁用阴影. 看下图是如何工作的.即阴影模式内的无

• 引入了新的厚度工作流，可能会影响使用透射着色器节点的材质
  • 如果材质正在使用，则自动转换
  • 当厚度不为零时，半透明BSDF现在使用更精确的近似值。为了再现与4.1中相同的结果，需要将值为0的节点连接到材质输出节点的接口。
  • “次表面半透明”已被删除，因为现在总是对其进行解算。然而，它依赖于接口输出来确定对象的内部吸收。阴影贴图仍然可以通过启用来细化此厚度。这可以帮助实现与4.1中类似的结果。厚度材质·设置·厚度来自阴影

• 屏幕空间折射和光照探头平面在使用渲染方法（前者）材质中不再支持，目前唯一的解决方法是使用渲染方法并启用。正在讨论为这些材质添加新的折射选项

渲染设置

• 体积现在接收间接光。加载旧文件时，设置为接近零以保持其外观。若要启用间接光，请将上述特性重置为默认值。钳制·体积·间接光

光照探头

• 光照探头体积采样的位置和影响体积都发生了变化。它们可能需要手动放大以避免漏光
• 光照探头体积现在有一个选项可能需要一些调整才能烘焙旧场景。点面元精度
• 光照探头体积物体现在包含烘焙的灯光。需要使用再次进行烘焙。烘焙也可以按每个体积来使用 场景 > 光照探头 > 烘焙全部光照探头体积数据> 烘焙> 烘焙灯光数据
• 光照探头球体选项已移动。它们的含义发生了变化，因为它们现在对应于方形纹理而不是立方体纹理
• 光照探头球体和平面仅记录漫反射照明。所有镜面反射和光泽照明都将转换为漫反射照明。这是目前正在调整的一个限制
• 光照探头可见性集合已被删除，取而代之的是每个对象的可见性选项。需要手动转换

辉光

辉光功能及其关联的渲染过程已被删除，取而代之的是具有辉光类型的实时合成器节点。需要通过在合成器设置中添加节点来手动调整旧文件。通过在“着色”弹出面板中启用合成器，可以在视口中预览合成器结果。